【工具升级】 I Allegro X 新功能汇总,高效完成一体化系统设计

本文为大家详细介绍 Allegro X 平台的全新更新内容,本次更新实现了设计周期的缩短、协作能力的提升,并可与企业全流程工作流无缝集成,助力完成一体化的系统设计工作

一、

25.1 版本更新

Allegro X 平台 25.1 版本进一步加速了高级设计流程,大幅提升用户设计效率。本次更新在基板布线、库集中化管理、印刷电路板(PCB)与先进封装设计(APD)编辑,以及系统级设计领域新增多项强大功能。从 AI 驱动的自动化设计,到性能与易用性的全面升级,本次更新为应对各类复杂设计挑战,提供了智能、可扩展的解决方案。

25.1 版本核心更新亮点如下:

Allegro X AI 高级基板布线器 (Advanced Substrate Router)

  • 适用于先进封装设计的高性能、多层布线器
  • 支持倒装、芯-芯互连布线,兼容晶圆厂设计约束
  • Allegro X APD Professional(专业版)及Expert(专家版)授权使用
Allegro X 托管库(Allegro X Managed Library)

  • 与 Pulse 平台深度集成的集中化库管理系统
  • 核心功能:版本控制、基于角色的权限管理、生命周期管理、产品生命周期管理 / 企业资源规划(PLM/ERP)系统集成、本地 / 离线使用支持

Allegro X PCB Editor (APD)功能增强

✨全新功能

  • 正片Mask支持:简化掩模层的可视化操作

  • OpenType字体支持:设计输出全流程适配现代字体格式
  • 约束面板:支持可停靠操作界面,便捷完成约束的分配与查看
  • 差分对自动配置:大幅简化差分对的创建流程
  • 智能搜索:可对设计属性 / 偏好设置实现预测性搜索
  • 一键式生产数据导出功能:通过统一对话框实现制造、装配与测试相关文件的导出。
  • 密度感知型除气设计:保障电路板金属密度均匀性
  • 拓扑工作台:强化基于拓扑的约束管理能力
  • 3DX 画布功能增强:实现实时 3D 可视化、交叉探测与智能视角切换
功能优化

  • 引脚延迟(Pin Delay)导入功能增强:支持自动识别、有效性校验及选择性导入。
  • 快速仿真截取功能:可提取版图截面用于独立仿真。
  • 基于区域的金属填充功能:支持按区域 / 图层分配自定义填充图案。
  • 金属密度扫描功能增强:新增多项检测项及扫描模式
  • 性能优化升级:提升设计规则检查(DRC)、布线、图形处理及三维(3D)视图的运行速度。
  • SKILL 语言功能增强:新增及更新多项目自动化与定制化功能。
Pulse 平台更新

  • 基于文件夹式检查点机制,备份与恢复速度提升至原先的 3 倍。
System Capture 设计工具更新

  • 版图编辑功能提升:以增强型编辑工具替代布局规划环节。
  • 系统级设计功能:支持多板、多页面的逻辑板设计
  • 导航链接报表功能:支持生成网络、引脚及器件的交叉引用报表。
  • SnapMagic 集成功能:支持访问外部元器件数据库
  • 电应力分析功能:可通过流程管理器对选定集成电路(IC)执行电过应力测试(EOS)。
  • 电源拓扑分析功能:提供布局前/布局后独立分析面板。
  • 本地库支持功能:可实现带完整格式的离线符号创建。
  • 自定义验证规则功能:支持为所有对象类型配置用户自定义规则
  • 多封装符号支持功能:可便捷管理各类封装派生。
  • 库 CAD 数据导出:支持导出逻辑数据与物理数据。
  • 提升大型设计的处理速度,降低内存占用率。
设计加速工具

元器件管理器

  • 可从元器件管理器交叉探测至原理图中的对应元器件
  • 针对带有用户覆盖的、从库中导入的属性值的任意器件实例执行同步操作。
  • 支持对处于同步状态的器件执行替换操作。
去耦 / 旁路电容设计

  • 可为单个电源轨(组)定义并使用多种容值的电容器件
  • 电源与地网络全局查找检索功能(22.1/23.1 增量服务版本)
  • 支持基于电压属性 / 数值进行精准检索
  • 具备属性删除、显示控制功能
  • 多页面批量删除功能(22.1/23.1 增量服务版本)
免费 System Capture 查看器(无需授权)

  • 以只读模式查看原理图,支持全功能导航与搜索
  • 独立轻量安装包,部署更便捷
  • System Capture 功能可完美适配 Pulse 受控库流程
集成库管理

  • 集成式元器件数据与逻辑符号制作,支持版本的创建与全生命周期管理
  • 封装焊盘的制作与管理
系统设计

  • 功能叠加层设计
  • 表格驱动式设计
  • 多页面系统级设计
可靠性分析

  • 基于原理图模板的审计核查
  • 支持创建器件分类
  • 去耦电容向导功能优化
  • 电源树分析
  • 设计中热分析
  • 工作流辅助式热分析
  • 支持执行假设分析,功能包括:
  • 切换电源来源,可选用户定义、额定值或应力推导值
  • 灵活调整元器件在电路板上的布局
  • 支持以表格形式查看元器件的最终温度和功耗数据
  • 支持查看各图层的热视图
  • 分析模型管理器(AMM)集成
  • 拓扑提取 ——TopXP 工具集成
数据与库管理

  • 动态物料清单(Live BOM)及全局搜索中嵌入元器件清单
  • 分析数据汇总功能
  • 附件版本全生命周期控制
基础架构

  • 支持零信任网络访问(ZTNA)网页代理部署(开放式授权协议 / OAuth)
  • 用户管理组件(Keycloak)版本升级
  • Java 运行环境版本升级
  • 生产发布(PFM)预验证功能
  • 产品生命周期管理(PLM)功能 / 支持矩阵
原理图符号制作(全授权通用)

  • 专属逻辑库制作环境,支持原理图模型设计
  • 支持符号模板 —— 可快速创建各类图形与符号
高级原理图符号制作(含 Allegro 库制作功能,简称 PDV)

  • 配备验证框架,支持原理图符号、逻辑与物理设计的兼容性校验
  • 支持导入 CSV 格式引脚清单
  • 计划支持其他数据格式导入(未来迭代)
受控库制作

  • 完备的计算机辅助设计(CAD)库开发与管理平台
  • 一体化的制作与数据管理环境
  • 支持模板、权限控制、版本管理等结构化库制作能力
  • 为完整元器件及关联设计对象提供专属验证框架
  • 支持多格式数据交换与报告生成
  • 提取 CAD 物理模型的元数据,并将其设为可检索参数
PCB 布局设计更新

3D 功能小幅优化

3DX 画布中的板级映射

  • 支持封装、器件或机械模型的映射配置
  • 为模型浏览、删除、模型颜色设置单独列项,操作更便捷
  • 搜索功能 —— 默认前后自动匹配通配符
  • 点击列标题,可对模型进行正序 / 倒序字母排序
  • 优化模型浏览过程中的精准搜索体验
  • 支持映射文件的导入与导出
无鼠标操作 3DX 画布

  • 方向键实现视角平移
  • 下划线键(_)与等号键(=)实现视角放大 / 缩小
  • 按住 Shift 键 + 方向键实现视角旋转
通用场景描述格式(USD)

  • 新增该格式的导出功能,为英伟达元宇宙(nVidia Omniverse)平台必备导出格式
  • 二维画布中旧版的 STEP 封装映射功能已下线,统一使用 3DX 画布映射工具
横截面 —— 阻抗物理规则

  • 支持冻结铜皮的增量更新,可选择性更新动态挖空区域
  • 支持对相邻图层铜皮进行挖空处理
  • 过孔残桩优化 —— 按层过渡次数精准管控
  • 玻纤布纹理识别:设计规则检查(DRC)可自动标记出超过方均根(RSS)长度、可能布设在玻纤布空隙上的布线
  • 支持差分焊盘间的差分对布线
显示功能

  • 支持位号嵌入式显示
  • 增强型名称嵌入式显示效果,视觉更清晰
  • 可参数化设置的光绘菲林记录
交互式布线功能增强

差分对管控

  • 优化线宽 / 线距切换及区域进入时的差分对汇聚效果,减少人工修正工作量
焊盘入口管控

  • 基于焊盘几何形状重新设计差分对焊盘入口,在符合制造规范的前提下,大幅提升差分对耦合度
自定义平滑布线易用性

  • 支持暂时忽略电气时序规则完成布线平滑处理,在时序调谐前缩短连线长度
  • 核心设计原则:在满足电气时序规则的同时,保留图层空间,避免整体接口长度增加
二、24.1 版本更新

Allegro X 24.1 版本在原有可扩展、高安全、高度集成的设计环境基础上持续升级,新增设计加速工具、托管库、设计中分析功能,保障产品的合规性与可靠性;同时升级 ZTNA 基础架构、3D 板级映射及布线功能,助力设计师实现设计一次成功。

Schematic Capture 更新

1、设计加速工具

元器件管理器

  • 从元器件管理器交叉探测至原理图中的对应元器件
  • 实现库中用户自定义覆盖的注入属性值,与任意元器件实例同步
  • 支持对已完成同步的元器件执行替换操作

去耦 / 旁路电容设计

  • 可为单个电源轨(组)定义并使用多种容值的电容器件
  • 电源与地的全局查找和搜索功能(22.1/23.1 版本紧急服务发布)
  • 支持基于电压属性 / 数值进行精准检索
  • 具备属性删除、显示控制功能
  • 多页面批量删除功能(22.1/23.1 版本紧急服务发布)

免费 System Capture 查看器(无需授权)

  • 以只读模式查看原理图,支持全功能导航与搜索
  • 独立轻量安装包,部署更便捷
  • System Capture 功能可完美适配 Pulse 受控库流程
集成库管理

  • 集成式元器件数据与逻辑符号制作,支持版本的创建与全生命周期管理
  • 封装焊盘的制作与管理
系统设计

  • 功能叠加层设计
  • 表格驱动式设计
  • 多页面系统级设计
可靠性分析

  • 基于原理图模板的审计核查
  • 支持创建器件分类
  • 去耦电容向导功能优化
  • 电源树分析
  • 设计中热分析
  • 工作流辅助式热分析
  • 支持执行假设分析,功能包括:
  • 切换电源来源,可选用户定义、额定值或应力推导值
  • 灵活调整元器件在电路板上的布局
  • 支持以表格形式查看元器件的最终温度和功耗数据
  • 支持查看各图层的热视图
  • 分析模型管理器(AMM)集成
  • 拓扑提取 ——TopXP 工具集成
数据与库管理

  • 动态物料清单(Live BOM)及全局搜索中嵌入元器件清单
  • 分析数据汇总功能
  • 附件版本全生命周期控制
基础架构

  • 支持零信任网络访问(ZTNA)网页代理部署(开放式授权协议 / OAuth)
  • 用户管理组件(Keycloak)版本升级
  • Java 运行环境版本升级
  • 生产发布(PFM)预验证功能
  • 产品生命周期管理(PLM)功能 / 支持矩阵
原理图符号制作(全授权通用)

  • 专属逻辑库制作环境,支持原理图模型设计
  • 支持符号模板 —— 可快速创建各类图形与符号
高级原理图符号制作(含 Allegro 库制作功能,简称 PDV)

  • 配备验证框架,支持原理图符号、逻辑与物理设计的兼容性校验
  • 支持导入 CSV 格式引脚清单
  • 计划支持其他数据格式导入(未来迭代)
受控库制作

  • 完备的计算机辅助设计(CAD)库开发与管理平台
  • 一体化的制作与数据管理环境
  • 支持模板、权限控制、版本管理等结构化库制作能力
  • 为完整元器件及关联设计对象提供专属验证框架
  • 支持多格式数据交换与报告生成
  • 提取 CAD 物理模型的元数据,并将其设为可检索参数

2、PCB 布局设计

3D 功能小幅优化

3DX 画布中的板级映射

  • 支持封装、器件或机械模型的映射配置
  • 为模型浏览、删除、模型颜色设置单独列项,操作更便捷
  • 搜索功能 —— 默认前后自动匹配通配符
  • 点击列标题,可对模型进行正序 / 倒序字母排序
  • 优化模型浏览过程中的精准搜索体验
  • 支持映射文件的导入与导出
无鼠标操作 3DX 画布

  • 方向键实现视角平移
  • 下划线键(_)与等号键(=)实现视角放大 / 缩小
  • 按住 Shift 键 + 方向键实现视角旋转
通用场景描述格式(USD)

  • 新增该格式的导出功能,为英伟达元宇宙(nVidia Omniverse)平台必备导出格式
  • 二维画布中旧版的 STEP 封装映射功能已下线,统一使用 3DX 画布映射工具
横截面 —— 阻抗物理规则

  • 支持冻结铜皮的增量更新,可选择性更新动态挖空区域
  • 支持对相邻图层铜皮进行挖空处理
  • 过孔残桩优化 —— 按层过渡次数精准管控
  • 玻纤布纹理识别:设计规则检查(DRC)可自动标记出超过方均根(RSS)长度、可能布设在玻纤布空隙上的布线
  • 支持差分焊盘间的差分对布线
显示功能

  • 支持位号嵌入式显示
  • 增强型名称嵌入式显示效果,视觉更清晰
  • 可参数化设置的光绘菲林记录
交互式布线功能增强

差分对管控

  • 优化线宽 / 线距切换及区域进入时的差分对汇聚效果,减少人工修正工作量
焊盘入口管控

  • 基于焊盘几何形状重新设计差分对焊盘入口,在符合制造规范的前提下,大幅提升差分对耦合度
自定义平滑布线易用性

  • 支持暂时忽略电气时序规则完成布线平滑处理,在时序调谐前缩短连线长度
  • 核心设计原则:在满足电气时序规则的同时,保留图层空间,避免整体接口长度增加